产品简介：
MPD-2系列为台式双盘金相试样研磨抛光机，采用整体注塑设计，密封式进排水系统；超大超深磨样式，避免磨抛时冷却水及磨抛液等外溅。适用于金属、陶瓷、岩石、电子器件等各类样件的精密研磨抛光。本机集粗磨、精密、抛光等功能与一体，更换砂纸方便快捷，具备多种磨抛盘选择（200-300mm直径）。满足各↘类实验的研磨抛光要求。
技术参数：
型号 | MPD-2W | MPD-2A | |
机体形式 | 台式双盘 | ||
控制方式 | 双盘单控 | 双盘双控 | |
转向选择 | 双转向（正反转） | 双转向（正反转） | |
磨盘转速 | 无极调速100-1450转/分钟+高低定速 | 无极调速100-1450转/分钟+四档定速 | |
主机功率 | 550W | 1100W（550WX2） | |
速度控制 | 交流变频器控制 | ||
磨盘直径 | 230mm （可选配200、250、300mm等规格） | ||
出水喷洒 | 万向可调 | ||
外形尺寸 | 850X750X450mm | ||
电源 | 220V | 220V | |
